G-25X型高精密光刻機(jī)

產(chǎn)品介紹：

設(shè)備概述:

本設(shè)備是我公司專(zhuān)門(mén)針對(duì)各大專(zhuān)院校及科研單位對(duì)光刻機(jī)的使用特性研發(fā)的一種高精密光刻機(jī)，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

主要構(gòu)成

主要由高精度對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場(chǎng)CCD顯微顯示系統(tǒng)、曝光頭、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、防震工作臺(tái)和附件箱等組成。

多點(diǎn)光源（蠅眼）三點(diǎn)找平機(jī)構(gòu)

可調(diào)光強(qiáng)的光欄高精度X、Y、Z、Q 調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)

主要功能特點(diǎn)

1. 適用范圍廣

適用于Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對(duì)準(zhǔn)曝光。

2. 結(jié)構(gòu)穩(wěn)定

具有氣浮式找平機(jī)構(gòu)和可實(shí)現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu)；具有真空掩膜版架、真空片吸盤(pán)。

3. 操作簡(jiǎn)便

采用翻板方式取片、放片；按鈕、按鍵方式操作，可實(shí)現(xiàn)真空吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能，操作、調(diào)試、維護(hù)、修理都非常簡(jiǎn)便。

4. 可靠性高

采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨(dú)特的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機(jī)械零件，使本機(jī)具有非常高的可靠性。

5. 特設(shè)功能

除標(biāo)準(zhǔn)承片臺(tái)外，還可以為用戶(hù)定制專(zhuān)用承片臺(tái)，來(lái)解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開(kāi)所引起的版片無(wú)法對(duì)準(zhǔn)的問(wèn)題

主要技術(shù)指標(biāo)

1. 設(shè)備能真空吸附5"×5"方形掩板,對(duì)版的厚度無(wú)特殊要求（1～3mm皆可）。

2. 設(shè)備能適用于Φ100mm圓形基片（或100×100mm方形基片），基片厚度≤5mm,當(dāng)您的基片厚度≤1mm時(shí)，我公司為本機(jī)配置標(biāo)準(zhǔn)承片臺(tái)（不另計(jì)費(fèi)），當(dāng)基片厚度＞1mm時(shí)，設(shè)備需配置專(zhuān)用承片臺(tái)（訂貨時(shí)用戶(hù)須說(shuō)明，費(fèi)用另議）。

3. 照明：

光源：采用GCQ350Z型高壓水銀直流汞。

照明范圍：≤ф117mm曝光面積：Φ100mm在Φ100mm范圍內(nèi),曝光不均勻性≤±4%，曝光強(qiáng)度：≥6mw/ cm2（此指標(biāo)用紫外光源I線(xiàn)365nm測(cè)量）。

4. 本設(shè)備采用進(jìn)口時(shí)間繼電器控制氣動(dòng)快門(mén)，動(dòng)作準(zhǔn)確、可靠。

5. 本機(jī)為接觸式曝光機(jī)，但可實(shí)現(xiàn)：

a. 硬接觸曝光：用管道真空來(lái)獲得高真空接觸，真空≤-0.05MPa。

b. 軟接觸曝光：接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ～ -0.05MPa之間。

c. 微力接觸曝光：小于軟接觸，真空≥-0.02MPa。

6. 曝光分辯率：本設(shè)備硬接觸曝光的分辨度可達(dá)1μm以上。

7. 對(duì)準(zhǔn)：觀察系統(tǒng)為兩個(gè)單筒顯微鏡上裝二個(gè)CCD攝像頭，通過(guò)視屏線(xiàn)連接到顯視屏上。